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[더벨]파크시스템스, EUV용 포토마스크 리페어 장비 출시 더벨”머니투데이 thebell”에 출고된 기사입니다.파크시스템스가 반도체 극자외선(EUV) 공정 시 포토마스크에 발생하는 나노미터 크기의 결함 및 파티클을 안전하고 효과적으로 제거할 수 있는 신제품 “파크 NX-마스크(Park NX-Mask)”를…